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課程名稱 |
半導體製程概論
Introduction to Semiconductor Processing |
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開課學期 |
106-1 |
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授課對象 |
工學院 化學工程學研究所 |
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授課教師 |
徐振哲 |
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課號 |
ChemE5004 |
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課程識別碼 |
524 U0280 |
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班次 |
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學分 |
3.0 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
星期一6,7(13:20~15:10)星期四1(8:10~9:00) |
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上課地點 |
普505化工一 |
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備註 |
總人數上限：60人 |
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Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1061ChemE5004_ |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
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課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
GENERAL COURSE DESCRIPTION：1. INTRODUCTION TO SEMICONDUCTOR PHYSICS AND DEVICE OPERATION
2. INTRODUCTION TO SEMICONDUCTOR PROCESSES
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課程目標 |
COURSE OBJECTIVES：
1. TO FAMILIARIZE STUDENTS WITH BASIC PHYSICS OF SEMICONDUCTOR MATERIALS
2. TO INTRODUCE OPERATING PRINCIPLES OF SEMICONDUCTOR DEVICES
3. TO FAMILIARIZE STUDENTS WITH IC PROCESSES
4. TO TEACH STUDENTS HOW TO ANALYZE THE IC PROCESSES WITH TRANSPORT PHENOMENA PRINCIPLES
COURSE OUTLINE INSTRUCTION HOURS REMARK
TOPICS CONTENTS LECTURE DEMONSTRATION EXPERIMENT OTHERS1
INTRODUCTION 1. DEVELOPMENT OF IC INDUSTRY
2. IC FOUNDRY AND PRODUCTION 2 1(VIDEOTAPE)
PHYSICS OF SEMI-CONDUCTORS 1. ENERGY BAND DIAGRAM
2. SEMICONDUCTOR DOPING 6
PHYSICS OF SEMI-CONDUCTING DEVICES 1. PN JUNCTION
2. BIPOLAR TRANSISTOR
3. MOS TRANSISTORS 3
SI-SINGLE CRYSTAL 1. CRYSTAL GROWTH
2. EPI- SI 6
THERMAL PROCESSES 1. OXIDATION
2. DOPANT DIFFUSION 6
PHOTO-LITHOGRAPHY 1. PHOTO-RESIST
2. EXPOSURE SYSTEM 4
IMPLANTATION 1. PLASMA
2. ION IMPLANTATION 5
ETCHING 1. WET ETCHING
2. DRY ETCHING 3
VAPOR DEPOSITION 1. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
2. PHYSICAL VAPOR DEPOSITION 6
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING 1. POURBAIX PHASE DIAGRAM
2. CMP PROCESS 3
PROCESS INTEGRATION FLOW SHEET OF CMOS PROCESS 3
EVALUATION AND ASSESSMENT: HOMEWORK, 30%, MID-TERM EXAM., 30%, AND FINAL EXAM., 40%
COURSE WEBSITE OR OTHER REMARKS:
HANDOUTS ARE AVAILABLE AT HTTP://WWW.CHE.NTU.EDU.TW/LAB/EML/COURSE-SEMI.HTM
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課程要求 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
待補 |
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參考書目 |
TEXTBOOK 半導體製程技術導論，BY HONG XIAO，TRANSLATED BY 羅正忠、張鼎張，台灣培生教育出版股份有限公司
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評量方式
(僅供參考) |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第1週 |
9/11,9/14 |
Ch. 1 Introduction |
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第2週 |
9/18,9/21 |
Ch2. Semiconductor Physics |
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第6週 |
10/16,10/19 |
Midterm Exam |
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第7週 |
10/23,10/26 |
Ch. 3 Wafers |
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第8週 |
10/30,11/02 |
Ch.4 Oxidation and Diffusion |
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第9週 |
11/06,11/09 |
Ch. 5 Lithography
Ch. 6 Ion Implantation |
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第10週 |
11/13,11/16 |
Ch. 7 Plasma
Demonstration: Optical Emission vs. Spectrum |
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第11週 |
11/20,11/23 |
Ch. 8 Etching |
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第12週 |
11/27,11/30 |
No Class |
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第13週 |
12/04,12/07 |
No Class |
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第14週 |
12/11,12/14 |
Final Presentation
Ch. 8 Etching |
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第15週 |
12/18,12/21 |
Ch.8 Etching
Ch.9 CVD |
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第16週 |
12/25,12/28 |
Ch.10 Metalization
Ch.11 CMP |
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第17週 |
1/01,1/04 |
Final Practice |
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